中国的光刻机哪个国家的最先进

evg光刻机是哪个国家的？

EVG光刻机是奥地利的司，全称为EVGroup。EVG是的半导体设备造商，专注于提供先进的光刻、粘接和其他微纳加工解决方案。

该司成立于1980年，总部位于奥地利的施泰尔克（），并在全球范围内设有个研发和生产基地，以满足客户的需求。EVG的光刻机在半导体和微电子行业中得到广泛应用，帮助造商实现高精度和率的微纳加工。

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造量排名第的是荷兰斯麦尔。世界各国光刻机光刻机造量的排名前荷兰斯麦尔司、日本尼康和佳能、上海微电子。其中荷兰斯麦尔垄断euv光刻机市场，年造量目前大约70，duv光刻机大约150，产品市场占有率超过90%。而日本尼康、佳能和上海微电子应该在10以内。

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现在成熟的程工艺节点在90nm，据传两年内将实现28nm的整机突破，光刻机的造技术中，光源问题是相当重要的环，分为紫外光源(UV)、深紫外光源(DUV)、极紫外光源(EUV)。其中，极紫外光源的造方，主要的是采用将二氧化碳激光照射在锡等靶材上的办，以此激发出13.5nm的光子，实现EUV光源的造。

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工业能力是个国防实力和经济实力的基础，而光刻机是现工业体系的关键部分，不过目前荷兰光刻机是最有名的，出口到全球各国，口碑很好。那光刻机是谁发明的？主要用途有哪些呢？1959年，世界上第架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研世界第个适用单结构硅晶片，1960年，仙童提出CMOSIC造工艺，第IC计算机IBM360，并且建立了世界上第2英寸集成电路生产线，美国GCA司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。

光刻机是集成电路造中最精密复杂、难度、价格的设备，用于在芯片造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在作过程中经历材料备、掩膜、光刻、刻蚀、洗、掺杂、机械研磨等个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业造工艺先进程度的重要指标。

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国产光刻机和荷兰光刻机之间的技术比较，归根结底还是上海微电子和ASML之间的技术比较。上海微电子是的光刻机厂商，这司目前能生产的光刻机工艺达到90nm。前段时间上海微电子向昆山同兴达出货了两SEMM光刻机，这再次奠定了上海微电子在国产光刻机领域地位。和荷兰ASML相比，上海微电子哦光刻机就显得有些‘儿科’了。据悉，ASML是全球唯可以生产EUV光刻机的厂商，这种EUV光刻机是生产7nm以下工艺的关键设备。

没有这些设备，积电、星等芯片工厂商都无生产7nm以下的高端芯片。而在高端DUV光刻机领域，ASML也给全球各大芯片工厂商供应光刻机。诸如国的中芯、积电、韩国星都从ASML采购了大量的高端DUV光刻机。由此可见，上海微电子和ASML的技术差距较大，二者并不在个量级上。

那么上海微电子的光刻机技术和ASML的光刻机技术，其关键点区别在哪呢？