北京国望光学科技上市了吗,上海微电子已经成功生产光刻机了么？这个领域国内是什么水平？

上海微电子已经成功生产光刻机了么？这个领域国内是什么水平？

全球半导体前光刻机长期由ASML、佳能、尼康司所垄断，司占据了99%的市场份额。ASML市场份额常年高达60%以上，呈现霸主垄断地位，ASML已经地垄断了超高端光刻机领域，而佳能则退出高端市场，凭借价格优势盘踞在中低端市场。

上海微电子（SMEE）成立于2002年，其主产品SSX600系列步进扫描投影光刻机满足90nm、110nm、280nm芯片前光刻工艺的要求，可以用于8英尺、12英尺大规模工业生产。毫无疑问上海微电子早已经能够生产光刻机，相比较于1984年4月成立的ASML，上海微电子疑问是芯片造光刻机领域的后起之秀，经过20余年的发展逐渐缩了和光刻头之间的差距，上海微电子在全球后封测光刻机领域高达40%的占有率。

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国的光刻机目前能的只有90nm程，而荷兰的ASMLEUV工艺光刻机可以到7nm程、6nm程、5nm程，并且的光刻机需要上万个零部件，需要不同的各个部件，售价也高达7亿币。们技术差就差在没有得到各个司的技术支持，以及国外对于光刻机关键部件的封锁。看完以下荷兰ASML光刻机为什么能够成，就可以知们究竟差在哪里。

为什么荷兰能够光刻机先来说说市场占有：荷兰ASML司是目前全球光刻机的扛把子，虽然说尼康(Nikon)和佳能(Canon)也能够提供商用的光刻机，但它们与ASML光刻机市场占有率相比还是差非常，ASML占据了全球80%以上的份额。1、独供应支持和技术分明造光刻机所需要的镜片、光栅都是由德国和美国提供，这两样东西对们来说都是禁止销售的，也就是们有钱也不可能买的到。

相关知识:传中国已经设计好35nm光刻机，那么它何时能制作出来呢？

不存在传言中的35nm光刻机，按照的十五规划，们的目标是研发出“28nm节点浸没式分步重复投影光刻机”并实现产业化，至于这机器什么时候能出来，们可以从当前但些新闻报中来猜测二。时间节点可能是2022年：2020年11月23日上海市浦东新区金融工作局官网有篇名为“浦东金融局走访调研上海微电子”的文章，其中对上海微电子了简短的介绍，称：“上海微电子是唯从事研发、生产以及销售光刻机的厂商，预计将于2022年交付首28nm工艺国产沉浸式光刻机，国产光刻机从此将突破到28nm程。

此文的背景是上海浦东金融局去上海微电子调研和开座谈会时，上海微电子高管当时就光刻机业务了详细介绍。这信息相当于是上海微电子自己官宣了28nm节点光刻机的推出时间，而上海地方府部门官网又发布了对应的新闻，定程度上也意味这是官方认可的信息。

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奥普光电本身不弄光刻机，大股东旗下国望光学核心团队成员来自于国唯超精密光学系统产业化技术研发单位-长春国科精密光学技术有限司（国望光学对其全资收购工作将于年内完成）。

相关知识:中国28mm光刻机明年如交付，会对世界电子产品格局有什么影响？

据报，上海微电子装备有限司将于2021年实现28nm光刻机的量产，目前国产的光刻机是90nm。28nm光刻机的成量产，对于国产光刻机来说，具有里程碑的意义。因为90nm光刻机对于目前的芯片来说真得不够用，而28nm光刻机对于目前的部分芯片来说，还是够用的。像现在的机处理器已经发展到5nm水平，今年即将发布的麒麟1020处理器与苹果A14处理器采用的就是5nm工艺程。

即使目前些中端5G处理器也在使用7nm工艺程，28nm芯片只有些百元机还在使用。国产光刻机与世界光刻机有大的差距？

目前先进的国产光刻机就是由上海微电子装备有限司生产的90nm光刻机，上海微电子装备有限司需要到2021年才可以实现28nm光刻机的量产。而世界上的光刻机已经发展到5nm技术，28nm光刻机应该是10年前的水平了。